정부가 K-반도체 본격 지원사격에 나선다. 세액공제를 대폭 강화하고, 특별자금을 신설하며, 각종 시설 관련 규제도 합리화하기로 했다. 반도체 인프라 구축을 위한 용수물량 확보 등 구체적 계획도 나왔다. 

업계는 긍정적 반응을 보이고 있다. 반도체 업계 관계자는 "대기업에 대한 혜택이 크다고 볼 수는 없지만 업계의 의견을 반영해 보다 실효성 있는 지원책을 정부가 내놨다는 점에서 긍정적으로 생각한다"고 말했다. 

13일 정부는 삼성전자 평택캠퍼스에서 종합 반도체 강국 실현을 위한 'K-반도체 전략'을 발표했다.

전세계 반도체 공급대란이 펼쳐지고 있는 가운데 전세계 정부가 나서서 자국 반도체 육성에 힘을 쏟고 있다. 하지만 정부는 구체적 지원방안책을 내놓지 않아 질타를 받아왔다. 이번에 K-반도체 전략 발표에서는 그나마 실효성 있는 지원 대책이 나왔다는 평가다. 

우선 세액공제 대폭 강화다. 핵심기술 확보, 양산시설 확충 촉진을 위해 핵심전략기술을 신설해 R&D는 최대 40~50%, 시설투자는 최대 10~20% 공제해 주기로 했다. 올해 하반기부터 2024년까지 투자분에 적용된다. 상용화 전 양산시설 투자도 핵심전략기술 투자에 포함시켜 지원할 예정이다. 

예를 들어 삼성전자와 LG전자의 경우 핵심전략기술 R&D 세액의 30~40%를 공제받게 되고, 핵심전략기술 시설투자를 할 경우 6%의 세액공제를 받게 된다. 

정부는 금융지원 대책도 내놨다. 8인치 파운드리 증설, 소부장 및 첨단 패키징 시설 투자 지원을 위해 1조원+& 규모의 반도체 등 설비투자 특별자금을 신설했다. 대출기간은 5년 거치형이며 15년간 분할상환 조건이다. 사업경쟁력 강화 지원자금 등의 지원규모를 최대한 확대하고 다양한 금융프로그램도 적극 지원키로 했다. 

세번째는 규제 완화다. 화학물질, 고압가스, 온실가스, 전파응용설비 반도체 제조시설 관련 규제를 합리화해 나가기로 했다. 특히 이번 규제 완화는 업계의 요구를 정부가 수용한 것이어서 의미가 있다는 평가다. 

화학물질 취급시설 인·허가 신속처리 패스트트랙을 도입해 인·허가 소요기간을 50% 단축키는 것이 목표다. 수입용기 검사면제 및 방호벽 설치기준을 완화하고, 최적가용기법(BAT; Best Available Techniques) 적용시 배출권 100% 할당하기로 했다. 전파응용설비에 대한 운용시점(준공신고만으로 즉시 운용) 및 변경허가 규제 완화도 추진한다. 

반도체 인프라 구축을 위한 지원에도 나선다. 용인·평택 등의 10년치 반도체 용수물량을 확보하고, 핵심전략기술 관련 반도체 제조시설의 전력 인프라 구축 시 정부·한전이 최대 50% 범위 내 공동분담해 지원해주기로 했다. 반도체 폐수처리의 경우 폐수재활용 R&D 등도 적극 지원키로 했다.