- 삼성전자-SK하이닉스, 하이 NA EUV 장비 도입
[녹색경제신문 = 박근우 기자]
세계적 반도체 장비기업 ASML의 크리스토프 푸케 최고경영자(CEO)가 한국을 방문한 가운데 이재용 삼성전자 회장, 최태원 SK그룹 회장과 회동할 것인지 관심이 모아진다.
ASML은 경기 화성시에 아시아 핵심 거점을 구축, 향후 국내 반도체 산업의 공급망 안정화를 촉진할 것으로 기대된다.
ASML은 12일 경기도 화성시 송동에서 '화성캠퍼스 준공식'을 가졌다.
이 자리에는 푸케 CEO를 비롯해 최한종 ASML 코리아 대표이사, 강감찬 산업통상자원부 무역투자실장, 김성중 경기도 행정1부지사, 조승문 화성시 제2부시장, 페이터 반 더 플리트(Peter van der Vliet) 주한 네덜란드대사, 배정수 화성시의회의장, 삼성전자·SK하이닉스 관계자 등 80여 명이 참석했다.
특히 푸케 CEO는 이번 방한 기간에 이재용 회장, 최태원 회장 등과 만날 것으로 관측된다. 이재용 회장은 유럽 출장 때마다 ASML 본사를 방문했다. 최태원 회장도 2023년 12월 ASML 본사를 방문한 바 있다.
ASML은 반도체 초미세공정 구현에 필수적인 극자외선(EUV) 노광장비를 독점 생산하고 있어 업계에서는 '슈퍼 을(乙)'로 불린다. ASML은 삼성전자, SK하이닉스, TSMC 등 글로벌 반도체 기업에 반도체 노광 장비를 공급하고 있다.
'하이 NA(High-NA) EUV'라 불리는 차세대 노광장비의 경우 글로벌 반도체 업체들의 확보전이 치열하다. 이 장비는 기존 EUV보다 해상도가 높아 2나노 이하 시스템 반도체나 고성능 D램 생산에 필수적이다.
SK하이닉스는 지난 9월 경기도 이천 M16 공장에 '하이 NA EUV' 장비를 메모리 업계 최초로 확보했다. 삼성전자는 올해 3월 연구개발용 장비를 국내 최초로 설치했고, 내년 상반기까지 양산용 장비 추가 투입을 추진 중이다.
삼성전자와 ASML은 지난해 12월 수도권에 EUV 연구소(조인트랩)를 설립하기로 했다. 삼성전자와 ASML은 하이 NA EUV를 활용한 2나노 이하 초미세 공정 기술 개발을 위해 약 1조2000억 원을 공동 투자한다. 이번 푸케 CEO의 방한을 계기로 EUV 조인트랩에 속도를 낼 전망이다.
ASML은 올해까지 총 2400억 원을 투자해 경기도 화성에 반도체 장비 클러스터인 '뉴 캠퍼스(화성캠퍼스)'를 짓겠다는 계획을 발표한 바 있다. 1만6000㎡ 규모의 화성캠퍼스에는 심자외선(DUV)과 EUV 노광장비 등 첨단장비 부품의 재(再)제조센터(Repair Center) 및 트레이닝 센터 등이 들어섰다.
ASML은 화성캠퍼스 준공을 계기로 삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 기업과의 공정 협력 및 기술 교류를 강화할 계획이다. 아울러 국내 소부장(소재·부품·장비) 기업과의 연계 생태계를 구축해 한국 반도체 산업과의 상생형 협력 모델을 추진한다.
푸케 CEO는 "ASML 화성캠퍼스 조성이 순조롭게 진행될 수 있도록 많은 관심을 갖고 지원해 주신 경기도에 감사하다"며 "앞으로도 경기도와 대한민국의 반도체산업 발전에 기여하기 위해 노력하겠다"고 말했다.
강감찬 실장은 축사에서 "한국 반도체 산업 발전에는 지방자치단체와 중앙정부, 국가 간의 긴밀한 협력이 중요하다"며 "오늘의 준공은 그 협력의 좋은 사례이다. 앞으로도 한국과 네덜란드 양국 간의 반도체 기술 협력과 투자가 더욱 긴밀하게 이어지기를 기대한다"고 말했다.
박근우 기자 lycaon@greened.kr

