ASML, 화성캠퍼스 개관…삼성은 연구용·하이닉스는 양산용 ‘High-NA’ 도입

[녹색경제신문 = 문슬예 기자] 세계 최대 반도체 노광장비 기업 ASML이 고객사 기술 지원과 교육을 위한 첨단 거점 ‘화성캠퍼스’를 공식 개관했다. 이번 캠퍼스 출범을 계기로 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 주요 반도체 기업과의 협업이 한층 확대될 전망이다.

12일 ASML코리아는 경기도 화성 송동 도시지원시설 용지에 약 2400억원을 투자해 1만6000㎡ 규모의 복합 캠퍼스를 완공했다고 밝혔다.

이날 개관식에는 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet) ASML 최고경영자(CEO)를 비롯해 정부 및 지자체 관계자, 주한 네덜란드 대사관, 주요 고객사 관계자 약 80여 명이 참석했다. 

A·B동으로 구성된 신사옥은 사무동과 함께 장비 재제조(R&R)센터, 트레이닝 센터를 통합한 거점으로 설계됐다. 트레이닝 센터는 매년 2000명 이상을 대상으로 100여 개의 리소그래피 교육 프로그램을 운영하며, 향후 High-NA 장비 교육 과정도 포함될 예정이다.

푸케 CEO는 “화성캠퍼스는 한국 고객과의 신뢰와 혁신, 지속가능성을 상징하는 공간으로 주요 반도체 제조사들이 위치한 화성시에 자리해 있다”며 “반도체 제조 공정이 복잡해지는 가운데, 이러한 근접성은 효율적인 기술 이전에도 기여할 것”이라고 밝혔다.

푸케 CEO는 이날 오전 준공식 참석 후 전영현 삼성전자 부회장을, 전날에는 곽노정 SK하이닉스 사장을 각각 만난 것으로 알려졌다. 

업계 관계자는 “ASML 입장에서 핵심 고객사인 양사와의 연쇄 회동은 향후 High-NA 장비 공급과 공정 협력 확대 논의가 중심이었을 것”이라고 전했다.

High-NA EUV는 기존 EUV 대비 정밀도를 약 1.7배 향상시킨 차세대 노광 기술 장비로, 장비 한 대당 가격이 약 5000억원을 넘는 초정밀 설비다. 더욱 미세한 회로 패턴을 구현할 수 있어, 2나노미터 이하 초미세 공정의 핵심 장비로 꼽힌다.

삼성전자와 SK하이닉스는 각각 지난 3월과 9월 High-NA EUV 장비를 1대씩 도입했다. 다만 삼성전자는 연구용 장비를, SK하이닉스는 양산용 장비를 각각 도입했으며 두 모델 간 사양이 일부 다른 것으로 알려졌다. 양 사 모두 향후 추가 장비 도입을 검토 중이라는 입장이다.

한편, ASML은 이번 캠퍼스 완공에 맞춰 국내 인력 및 장비를 순차적으로 이전할 계획이다. 올해 말까지 화성 일대에 분산돼 있던 1500여 명의 임직원이 새로운 화성캠퍼스에서 함께 근무할 예정이다.